高真空氣氛爐是一種間歇式感應(yīng)加熱爐,主要用于硬質(zhì)合金、粉沫冶金行業(yè)生產(chǎn)各種粒度的碳化鎢粉、碳化鈦粉、碳化釩粉等金屬粉沫及復(fù)合金屬粉沫。
高真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù),真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于一個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空,真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的,真空熱處理可以實(shí)現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝,但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比,真空熱處理的同時(shí),可實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脫脂除氣等作用,從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。
高真空氣氛爐特點(diǎn):
?。薄?300℃超高溫爐體,可兼容滿(mǎn)足細(xì)、中、粗顆粒料WC粉和復(fù)合料碳化加熱工藝。
?。病⒉捎脭?shù)顯化可編程智能控溫系統(tǒng),全自動(dòng)高精度完成測(cè)溫控溫過(guò)程,系統(tǒng)可按給定升溫曲線升溫,并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
?。?、采用純水冷卻系統(tǒng);數(shù)字式流量監(jiān)控系統(tǒng),采用高性能中頻接觸器對(duì)爐體進(jìn)行自動(dòng)轉(zhuǎn)換;的PLC水、電、氣自動(dòng)控制和保護(hù)系統(tǒng) 。
?。础⒃撓到y(tǒng)對(duì)碳化質(zhì)量有明顯改善,與傳統(tǒng)碳化爐相比,具有反應(yīng)*、粒度均勻、化合含碳量高、游離含碳量低等優(yōu)勢(shì),而且產(chǎn)量高、勞動(dòng)條件好、使用壽命長(zhǎng)。
高真空氣氛爐技術(shù)參數(shù):
?。?、zui高使用溫度:1800℃、2300℃
?。病⒏邷貐^(qū)容積:0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、0.1m3、0.15m3、0.2m3、0.3m3
?。?、爐內(nèi)工作氣氛:氫氣、氮?dú)?、惰性氣體等
?。础囟染鶆蚨龋?le;±10℃ 溫度測(cè)量:遠(yuǎn)紅外線光學(xué)測(cè)溫測(cè)溫范圍800~2400℃或0~2400℃;測(cè)溫精度
0.2~0.75%。
5、溫度控制:程序控制和手動(dòng)控制; 控溫精度:±1℃
?。?、極限升溫速度:200℃/分鐘(空爐)